氣相沉積爐的特點是什么 　　氣相沉積爐可用于以碳氫氣體為碳源的復合材料的化學氣相沉積。其中CVD沉積爐是指高溫下的氣相反應，例如，金屬鹵化物、有機金屬、碳氫化合物等的熱分解，氫還原或使它的混合氣體在高溫下發生化學反應以析出金屬、氧化物、碳化物等無機材料的方法。這種技術開始是作為涂層的手段而開發的，但目前，不只應用于耐熱物質的涂層，而且應用于高純度金屬的精制、粉末合成、半導體薄膜等，是一個頗具特征的技術領域。 　　設備特點在于：(1)在低溫下合成高熔點物質;(2)析出物質的形態在單晶、多晶、晶須、粉末、薄膜等多種;(3)不僅可以在基片上進行涂層，而且可以在粉體表面涂層，特別是在低溫下可以合成高熔點物質，在節能方面做出了貢獻，作為一種新技術是大有前途的。 　　下面小編詳細列舉幾條爐子的特點，以便大家能更好的了解爐子的性能。 　　氣相沉積爐工作區尺寸可達2.5m×2m×4.5m，能滿足超大型工件化學氣相沉積處理需求；并且，采用多溫區獨立控溫，溫度均勻性好； 　　與此同時采用特殊結構沉積室，密封效果好，抗污染能力強； 　　氣相沉積爐采用多通道沉積氣路，流場均勻，無沉積死角，沉積效果好； 　　氣相沉積爐對炭沉積過程中產生的焦油、固體粉塵、有機氣體等能進行有效處理。

　　真空甩帶爐的結構組成有哪些呢 　　什么是真空甩帶爐？它有什么結構組成？下面和八佳的小編一起來看看吧。 　　真空甩帶爐是制備和開發亞穩材料（如非晶材料）的專用設備。該設備除具備感應爐的全部特點外，還具有制備大塊非晶和金屬薄片的功能，適用于各種非晶和微晶材料的研究和驗證。它廣泛應用于新型稀土永磁非晶軟磁材料和納米材料的科學開發和應用研究。 　　我們見到的真空甩帶爐由真空室、甩帶裝置、坩堝自動升降裝置、氣路系統、機殼和熔煉電源等組成。 　　1、真空室：采用304板組焊而成并做表面處理，爐門上裝有大尺寸觀察窗，既滿足高真空要求，又便于觀察實驗情況。 　　2、甩帶裝置：真空甩帶爐采用伺服電機驅動，無極調速，密封采用磁流體密封裝置，銅棍拆卸方便。轉動平穩，噪音極低。 　　3、坩堝自動升降系統：采用伺服電機升降，可根據不同材料設備不同噴帶參數。 　　4、氣路系統：真空甩帶爐由電磁閥、壓力罐、手動閥門和管路組成。 　　5、機殼：結合國內外設備外觀經驗，根據自身設備特點，設計出合理機殼，外表噴塑處理。 　　6、熔煉電源：真空甩帶爐定制的專用熔煉電源，操作簡單，結構小巧。 　　7、觸摸屏+PLC控制，可視化操作界面。 　　以上是對真空甩帶爐構組成的相關介紹，希望對大家有所幫助。想了解更多，請持續關注我們的網站，感謝您的支持！