使用真空燒結爐加熱得注意些什么 　　真空燒結爐加熱工件無氧化、無脫碳、無合金元素貧化，脫脂脫氣，真空提純，避免氫脆，能實現分級等溫淬火，能控制加熱與冷卻，為自動化、柔性化生產奠定基礎。但在使用加熱的時候需要注意下面四點： 　　1、測試真空燒結爐爐溫均勻性時，應注意測溫觸點的定位方式，以及離加熱元件的遠近。箱式電阻爐爐內經常(至少每月)用毛刷、掃帚或壓縮空氣、吸塵器等清潔爐膛和擱磚，要防止爐內氧化皮等雜質掉在電熱元件上，發生短路，甚至燒壞擱磚。底板、坩堝、爐罐等耐熱鋼構件每使用一段時間吊起敲擊，清除其氧化皮。氧化鐵皮等雜質如不及時清除，就會熔融與耐火磚發生反應，使爐絲熔化。 　　2、要避免熱處理產品，尤其足銅、鋁、鋅、錫、鉛等與電加熱元件接觸，無論是細粉、熔液或蒸汽等，防止在電加熱體表面侵蝕形成“麻坑”，截面變小再后過熱而燒斷。 　　3、真空燒結爐升溫后，不能長時間開啟爐門。當溫度高于400℃時，不得急劇冷卻。對于電熱元件在溫度高、冷熱變化大情況下容易引起氧化掉皮。對于鉬加熱爐，EI常使用維護中注意應冷卻至200℃以下方可停送保護氣。 　　4、引出棒與線夾子應接觸良好，引出棒與夾子接觸而應光滑。引出棒不能有發紅現象，供電時線夾子的升溫不超過60℃。注意由于升溫停止真空甩帶爐爐時的熱脹冷縮以及蠕變伸長等，引出棒接線夾子的螺栓容易發生氧化松動形成虛接短路，要定期檢查擰緊。

　　氣相沉積爐設備特點是什么　　氣相沉積爐適用于化學氣相沉積法制備碳-碳復合材料，也可用于以碳氫氣體（如C3H8等）為碳源的材料表面或基體等溫CVD/CVI處理，或以三氯甲硅烷（MTS）為氣源的材材料料表面抗氧化涂層、基體改性等。　　裝料方式有上裝料、底裝料、臥式三種裝料方式。該氣相沉積爐設備特點如下：　　1.多通道沉積氣路，流場均勻，無沉積死角，沉積效果好；　　2.采用先進的控制技術，能精密控制MTS的流量和壓力，爐膛內沉積氣流穩定，壓力波動范圍小；　　3.氣相沉積爐設備自動化高，關鍵執行電氣件采用進口；操作直觀、簡便，觸摸屏經過開發，可動態顯示爐子運行狀況并具有自我診斷功能，程序段可直接輸入。　　4.采用特殊結構沉積室，密封效果好，抗污染能力強。